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40V OptiMOS T2:英飛凌新推汽車電源MOSFET系列產品

發(fā)布時間:2011-12-13

產品特性:

  • 采用TO 無鉛封裝
  • 采用擴散焊接黏晶技術
  • 提升電性與散熱表現(xiàn)
  • 大幅降低封裝的導通電阻值

應用范圍:

  • 汽車電子


近日消息,英飛凌科技(Infineon)于日前宣布推出采用 TO 無鉛封裝的汽車電源 MOSFET 系列產品。
  
OtpiMOS T2 為業(yè)界率先采用 TO 無鉛封裝的車用電源 MOSFET,系列產品包括IPB160N04S4-02D ( 160A, TO-263 封裝)、IPB100N04S4-02D (100A, TO-263)、 IPP100N04S4-03D (100A, TO-220) 以及 IPI100N04S4-03D (100A, TO-262) 皆已上市。
  
新型 40V OptiMOS T2 MOSFET 結合創(chuàng)新的封裝技術及英飛凌的薄晶圓制程技術。據英飛凌表示,其MOSFET 新系列產品超越了現(xiàn)行歐盟 RoHS 對于含鉛焊錫封裝的規(guī)范。
  
英飛凌采用擴散焊接黏晶技術所生產的無鉛封裝包括TO-220, TO-262 以及 TO-263。由于封裝幾何方面對于晶粒焊墊厚度與晶片尺寸的特殊要求,現(xiàn)今擴散焊接粘晶技術僅適用于上述三種英飛凌所提供的封裝形式,OptiMOS T2 系列產品的量產已準備就緒。
  
英飛凌指出,更嚴格的 ELV RoHS 標準可能將于 2014年施行,屆時將要求采用完全無鉛的封裝方式。作為業(yè)界首款無鉛封裝 MOSFET,英飛凌的新產品讓客戶滿足更嚴格的要求。
  
英飛凌專利的無鉛黏晶 (die attach) 技術采用擴散焊接,可提升電性與散熱表現(xiàn)、可制造性以及品質。此黏晶技術搭配英飛凌的薄晶圓制程(60μm,標準為 175μm),可實現(xiàn)不使用鉛及其他有毒物質的環(huán)保產品,并大幅降低封裝的導通電阻值 RDS(ON)。
  
另外,熱阻 (RthJC) 改善率高達 40- 50%。英飛凌表示,傳統(tǒng)軟鉛焊料的熱傳導能力不佳,阻礙了MOSFET 接面之散熱,而新元件則大幅改良了熱阻。其他優(yōu)點還包括:由于沒有焊錫流跡 (Bleed-out) 及晶片傾斜 (Chip tiltness)的問題,以及更收斂的RDS(on) 與 RthJC 分布,提供了更佳的可制造性。降低產品內的機電應力,也提升了產品可靠性和品質。
  
從新款 OptiMOS T2 40V (如:IPB160N04S4-02D,160A) 的規(guī)格得知,其 RDS(on) 僅 2.0mΩ 且 RthJC 僅 0.9K/W。相較于使用標準鉛焊接的同類產品,其導通電阻降低了約20% 。此外,英飛凌專利的擴散焊接技術可減少「晶片至導線架」的熱阻抗,讓新型 OptiMOS T2 產品擁有同級產品中最佳效能。

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