機(jī)遇與挑戰(zhàn)：

• VLSI己經(jīng)提高了今年半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的預(yù)測(cè)
• Gartner作了強(qiáng)勁的硅片市場(chǎng)及IC固定資產(chǎn)投資增長(zhǎng)的預(yù)測(cè)
• Techcet看好電子材料市場(chǎng)的前景

市場(chǎng)數(shù)據(jù)：

• 上今年半導(dǎo)體投資將增長(zhǎng)85%及2011年再增長(zhǎng)約30%
• 2010年全球硅片市場(chǎng)需求持續(xù)回升，預(yù)期增長(zhǎng)34.3%
• 2010年IC設(shè)備的銷售額有望增長(zhǎng)96%，之前曾修正為增長(zhǎng)83%

半導(dǎo)體設(shè)備和材料市場(chǎng)熱

VLSI己經(jīng)提高了今年半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的預(yù)測(cè)，除此之外，由于全球半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇，Gartner作了強(qiáng)勁的硅片市場(chǎng)及IC固定資產(chǎn)投資增長(zhǎng)的預(yù)測(cè)。另一家Techcet看好電子材料市場(chǎng)的前景。

Needham Edwin Mok的報(bào)告中指出，大部分設(shè)備制造商對(duì)于目前的態(tài)勢(shì)，相比于它們4-6個(gè)月之前表示樂(lè)觀，使我們確信工業(yè)近期的回升將延伸至2011年。

Barclays Capital的C.J. Muse認(rèn)為，總體上今年半導(dǎo)體投資將增長(zhǎng)85%及2011年再增長(zhǎng)約30%。

按VLSI的最新報(bào)告，除此之外，2010年IC設(shè)備的銷售額有望增長(zhǎng)96%，之前曾修正為增長(zhǎng)83%。

盡管全球宏觀經(jīng)濟(jì)仍不樂(lè)觀，但是半導(dǎo)體制造商對(duì)于下半年的前景表示看好。它們認(rèn)為Q3有強(qiáng)勁增長(zhǎng)及庫(kù)存可能有小幅的增加。同時(shí)由于市場(chǎng)需求強(qiáng)勁，而產(chǎn)能顯示不足，所以產(chǎn)能利用率仍維持高位在95%，因此導(dǎo)致芯片制造商有進(jìn)一步投資的動(dòng)力。

從報(bào)告中，光刻機(jī)的供貨周期延長(zhǎng)，后道封裝設(shè)備也供不應(yīng)求。尤其是測(cè)試設(shè)備的供貨周期要超出正常值(現(xiàn)在為10-12周，而正常為6-8周)，因此直到Q3還看不見有下降的跡象。

總體上半導(dǎo)體設(shè)備的訂單一直到 2010 Q4不會(huì)減弱(季/季) 。緊接著前工序的大量訂單之后，由于客戶理性的反映，后道測(cè)試的產(chǎn)能會(huì)顯著增加。業(yè)界繼續(xù)觀察到此次周期與過(guò)去的若干周期有所不同，理由是過(guò)去主要依靠后道新增產(chǎn)能為主，而此次著眼于能跟蹤長(zhǎng)遠(yuǎn)的技術(shù)路線圖，如能進(jìn)行平行strip test，也即訂購(gòu)更先進(jìn)的測(cè)試儀。

半導(dǎo)體材料世界

Gartner的分析師Takashi Ogawa認(rèn)為，半導(dǎo)體材料市場(chǎng)同樣很熱，改變了2009的兩位數(shù)下降的局面。2010年全球硅片市場(chǎng)需求持續(xù)回升，預(yù)期增長(zhǎng)34.3%。

Gartner認(rèn)為，在今年Q2的初，硅片的需求可能會(huì)減弱，這是由于在Q1底市場(chǎng)需求的推廣已經(jīng)有較大提升之故。

''同樣，由于硅片需求的上升可能導(dǎo)致硅片價(jià)格在2009年急劇下降后，而在2010 1H或之后上升，這種情況會(huì)使硅片價(jià)格市場(chǎng)波動(dòng)，但是隨著下半年季節(jié)性市場(chǎng)需求上升，全球硅片市場(chǎng)在今年Q4將進(jìn)入一個(gè)溫和的調(diào)整期。

按Techcet Group最新報(bào)告，光刻膠制造商期望在2010年能恢復(fù)到2008年的95%銷售額，相當(dāng)于11.4億美元，而2009年下降25%。并預(yù)計(jì)全球光刻膠市場(chǎng)在未來(lái)3年中可繼續(xù)增長(zhǎng)到15億美元。

''閃存制造商是明顯的光刻進(jìn)步推動(dòng)者，因?yàn)樗SDRAM和處理器之后大量采用193nm浸入式光刻機(jī)，并采用兩次圖形曝光技術(shù)。據(jù)公司報(bào)道全球光刻膠的33%用在193nm(ArF) 干法及浸入式中，雖然248nm和i line光刻仍是芯片生產(chǎn)中大部分光刻層的主流技術(shù)，但是僅占43%的市場(chǎng)份額，當(dāng)然從硅片的通過(guò)量占更高的比例。

按公司數(shù)據(jù)，其它光刻膠的輔助材料市場(chǎng)，包括去膠劑，顯影液，抗反射涂層等(EBR，HMDS特殊溶劑)，今年銷售額有望達(dá)到10.5億美元，盡管09年僅顯影液的銷售額就下降25%以上。

2009年全球電子氣體市場(chǎng)與08年相比下降14%，為23.7億美元，預(yù)計(jì)2010年全球電子氣體市場(chǎng)增長(zhǎng)11%，其中特殊氣體部分領(lǐng)先增長(zhǎng)15%，達(dá)16億美元。

按Techcet預(yù)測(cè)全球電子氣體市場(chǎng)到2012年可以超過(guò)29億美元。

在2009全球電子氣體市場(chǎng)中Air Products仍以市占率達(dá)26%為首位，緊接著日本太陽(yáng)酸素及Air Liquide分別都占22%，Linde占16%及Praxair占9%。